氦質譜檢漏儀光學鍍膜機檢漏
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氦質譜檢漏儀光學鍍膜機檢漏

便攜式氦質譜檢漏儀光學鍍膜機檢漏
光學鍍膜是指在光學零件表面上鍍上一層或多層金屬 (或介質) 薄膜的工藝過程. 在光學零件表面鍍膜的目的是為了達到減少或增加光的反射, 分束, 分色, 濾光, 偏振等要求. 鏡片鍍膜是其中的一種應用, 通過對鏡片的鍍膜, 可以實現鏡片的防水, 防油, 防靜電, 防紫外線, 防藍光等功能. 其中減反射鍍膜是鏡片鍍膜的基礎. 反射率降低了自然透光率就會提升, 鏡片也就變得更加通透.

光學鍍膜需要真空環境: 一般選擇真空鍍膜設備進行鏡片鍍膜, 特點如下
1. 整套設備復雜昂貴, 需要快速便捷的維護
2. 不能加熱, 或只能少許加熱, 因為鏡片本身并不能很好的耐高溫. 多數情況都是室溫鍍膜, 因此膜層的附著力是較大挑戰, 需要選擇附著力更強的離子源.
3. 過程較快, 考慮到成本控制, 必須每次鍍膜周期不能太長以保證產出. 一般鍍膜 (單面)的厚度在 300nm左右, 整個過程 (加抽真空) 在20-40分鐘內完成. 因為整臺設備需要保證在較高的真空度. 經常查看漏氣狀況是確保真空鍍膜機真空度的一個好辦法,真空度的凹凸會直接影響到鍍膜質量, 因此日常檢漏是必不可少的.

上海伯東光學鍍膜機檢漏客戶案例: 某專門生產光學鍍膜機企業, 每年在國內有幾百臺鍍膜機的裝機量, 根據客戶實際情況, 上海伯東推薦便攜式氦質譜檢漏儀 ASM 310, 方便客戶鍍膜機在安裝, 維護時的使用.

光學鍍膜機檢漏方法: 采用真空模式, 客戶漏率要求 10E-9 Pa m3/s, 主要對真空室和連接管路進行檢漏, 通常真空室內漏氣都是從室壁上的一些接口或部件之前的焊縫中發生, 當抽氣系統抽氣后使真空室內壓強降低, 外部與內部的壓強差使氣體從壓強高的外部流向壓強低的真空室內, 形成真空度降低. 真空度的降低則會降低光學鏡片的合格率.
便攜式氦質譜檢漏儀光學鍍膜機檢漏

氦質譜檢漏儀 ASM 310

便攜式檢漏儀 ASM 310
清潔無油, 極輕的重量 21kg 和全球通用電壓使它成為理想的檢漏工具
便攜式氦質譜檢漏儀 ASM 310 是目前市場上同類型檢漏儀最輕便緊湊的產品
對氦氣的最小檢測漏率
真空模式 5E-13 Pa m3/s
吸槍模式 1E-8 Pa m3/s
對氦氣的抽氣速度 1.1 l/s


 


結合了 Pfeiffer 與 Adixen 兩家檢漏儀的技術優勢, 上海伯東德國 Pfeiffer 推出全系列新型號氦質譜檢漏儀, 從便攜式檢漏儀到工作臺式檢漏儀滿足各種不同的應用. 氦質譜檢漏儀替代傳統泡沫檢漏和壓差檢漏, 利用氦氣作為示蹤氣體可精確定位, 定量漏點. 氦質譜檢漏儀滿足單機檢漏, 也可集成在檢漏系統或 PLC. 推薦氦質譜檢漏儀應用 >>

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